炉関連製品

　タングステン､モリブデン､タンタル等の優れた特性を生かし、1,000℃から2,500℃の高温域で使用される炉及び炉関連部品の設計・製造・施工を行っています。
　真空炉，ガス雰囲気炉を問わず、小型の実験炉から大型の生産炉まで熱処理に関する条件を提示いただければ長年の経験と実績を生かし、より優れた性能効率を有する最適条件の炉を製作いたします。
　又、補修を要するヒーター、反射板、ボルト、ナット類等交換部品の製作や焼成用のボート、敷板等の製作も行っています。
熱処理条件例として
　　炉体　→　縦型　横型　丸型　角型
　　形態　→　　真空炉　雰囲気炉　大気炉　真空・ガス併用炉
　　熱処理目的　→　焼成　焼鈍　ろう付け　洗浄・乾燥　その他
　　使用雰囲気　→　真空　ガス名称
　　熱処理物　→　添加物の有無とその物質　総重量
　　使用温度　→　最高温度　常用温度　温度スケジュール
　　制御方式　→　温度　電流　電圧
　　電力　→　一次側電力容量
　　付属品　→　試料台，ボート，敷板の有無
　　その他必要条件

表面処理関係

　近年半導体、液晶、光学等多くの分野で各種表面処理装置が使われており、その装置の重要部品として、当社主力材料であるタングステン、モリブデン、タンタル、アルミニウム等が多く使用されております。
　これらの部品は、純度、表面精度、異物付着等が非常に厳しいものですが、長年培った技術により、当社の製品はそのすべてをクリアーし、好評を博しています。
　これらの広範囲にわたる装置部品のＱＣＤに対処すべく、又業界で誇れるプレス、絞り技術を駆使し、装置を熟知したスタッフと経験と実績を持つ優秀な技能集団を揃えており、すべての部品をラインアップし、各種部品の改善に協力できますので何でもご相談ください。

イオン注入装置

　半導体の製造技術として、ウエハーに不純物を拡散させる工程にイオン注入装置が使用されています。当社では、その装置で使用されているタングステン、モリブデンを主として多種にわたる消耗部品を製作しております。
　非常に難しいタングステン材料の重切削を可能にする等工程改善を進め、フィラメントからイオンヘッド等消耗部品の長寿命化へのご要望にお答えしています。

スパッター装置

　薄膜を形成するに使用されるスパッター装置は、半導体、ＴＦＴ液晶、光ディスク、磁気ヘッド等の各種製造分野に広がっています。
　スパッターリングターゲットとして、当社で高周波真空溶解した高純度アルミニウム、アルミニウム合金を製造しております。
　液晶関連で多く使用されるタングステン、モリブデン、タンタル、その他特殊金属のターゲット板、素材からバッキングプレート一体型やスパッタシールド、その他金属加工部品の製造・販売も行っています。
　又各種材料の真空溶解や合金の試作開発等も受託しておりますのでご用命ください。

真空蒸着装置

　真空蒸着による薄膜形成技術は、切削工具、半導体、整流素子、ランプ照明等広範囲の分野で使用されています。
　当社製品の蒸着用ヒーター、ボート、ハースライナーは、規格製品として常時在庫しており、又お客様のご要望によりイレギラー品も設計・製造いたします。
　ドーム、ハースデッキ、ハースデッキカバー等真空蒸着装置に使用される部品の製造その改善の要求にたいする設計・製造も致します。

その他加工品

　当社、主力販売材料であるタングステン、モリブデン、タンタルは、純金属として使用されている量も少なくレア－メタルとして扱われているが、先端技術が進歩した今日、その材質が持つ特徴からあらゆる分野で使用されており、電子工業界では欠くことのできない材料となっている。
　これらの金属は、その特異な性質から使用されているが逆にその性質から、粉末冶金法で製造されていることもあり、難削材料であり、他金属との結合しにくく、かつ高融点のため難溶接で、取り扱いを難しくしている材料である。
　しかし、当社は長年培った技術力、総合力で切削、研磨、板金、絞り、溶接とその組み合わせを駆使し、精度、加工形状等厳しい精密な製品の要求がある各工業分野からの要求に答えています。

　あらゆるニーズに対して、当社の総合力を発揮してお答えしますので、どんな難しい事でもご用命ください。